[发明专利]作为MEK抑制剂的杂环基化合物在审
申请号: | 201380023296.2 | 申请日: | 2013-03-11 |
公开(公告)号: | CN104271577A | 公开(公告)日: | 2015-01-07 |
发明(设计)人: | 巴韦什·戴夫;拉凯什·库马尔·班纳吉;萨米伦·普坎;阿比吉特·达塔·霍耶;拉伊库马尔·昂加尔戈;奇滕德拉·萨姆巴哈吉·贾达夫;文卡塔·P·帕勒;拉金德·库马尔·坎博伊 | 申请(专利权)人: | 鲁宾有限公司 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 刘慧;杨青 |
地址: | 印度*** | 国省代码: | 印度;IN |
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摘要: | 本公开涉及作为MEK抑制剂的杂芳基化合物。这些化合物包括式(I)的杂芳基化合物、它们的可药用盐、与适合药物的组合及其药物组合物。本公开还包括制备所述化合物的方法以及它们在治疗方法中的用途。本文中所公开的化合物由下面的式(I)表示。 | ||
搜索关键词: | 作为 mek 抑制剂 杂环基 化合物 | ||
【主权项】:
通式I的化合物、其互变异构体形式、其立体异构体、其可药用盐、它们与适合药物的组合以及含有它们的药物组合物,其中:R1选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的环烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂芳基和取代或未取代的杂环基;R2选自‑(C(Rc)(Rd))m‑C(=O)‑N(R6)R7、‑C(=O)N(R8)R9和‑O‑(C(Rc)(Rd))m‑C(=O)‑N(R6)R7;R3选自氢、取代或未取代的烷基和取代或未取代的环烷基;R4选自氢、卤素、取代或未取代的烷基和取代或未取代的环烷基;R5是取代或未取代的芳基,其中所述取代基选自Ra和Rb;R6和R7各自独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基和取代或未取代的杂环基;或者R6和R7与它们所附连的氮合在一起形成取代或未取代的杂环;R8和R9各自独立地选自氢、取代或未取代的环烷基和取代或未取代的杂环基,或者R8和R9与它们所附连的氮合在一起形成取代或未取代的杂环;前提是R8和R9两者不能同时为氢;并且当R8和R9不是与它们所附连的氮一起形成的杂环的一部分时,R8和R9中的至少一个是取代或未取代的环烷基或取代或未取代的杂环基;Ra和Rb选自氢、卤素和卤代烷基;Rc和Rd独立地选自氢、卤素、羟基和取代或未取代的烷基;或者Rc和Rd与它们所附连的碳合在一起形成取代或未取代的环烷基;m是选自1、2、3和4的整数;此外,其中:当烷基或烯基被取代时,所述烷基或烯基被1至4个独立地选自氧代、卤素、硝基、氰基、全卤代烷基、环烷基、芳基、杂芳基、杂环基、‑OR10b、‑SO2R10a、‑C(=O)OR10a、‑OC(=O)R10a、‑C(=O)N(H)R10、‑OR10a、‑C(=O)N(烷基)R10、‑N(H)C(=O)R10a、N(H)R10、‑N(烷基)R10、‑N(H)C(=O)N(H)R10、‑N(H)C(=O)N(烷基)R10、‑NH‑SO2‑烷基和‑NH‑SO2‑环烷基的取代基取代;当环烷基或环烯基被取代时,所述环烷基或环烯基被1至3个独立地选自氧代、卤素、硝基、氰基、烷基、烯基、全卤代烷基、羟基烷基、芳基、杂芳基、杂环基、‑OR10b、‑SO2R10a、‑C(=O)R10a、‑C(=O)OR10a、‑OC(=O)R10a、‑C(=O)N(H)R10、‑C(=O)N(烷基)R10、‑N(H)C(=O)R10a、N(H)R10、‑N(烷基)R10、‑N(H)C(=O)N(H)R10和‑N(H)C(=O)N(烷基)R10、‑NH‑SO2‑烷基和‑NH‑SO2‑环烷基的取代基取代;当芳基被取代时,所述芳基被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、羟基、烷基、烯基、全卤代烷基、环烷基、环烯基、杂环、‑O‑烷基、‑O‑全卤代烷基、‑N(烷基)烷基、‑N(H)烷基、‑NH2、‑SO2‑烷基、‑SO2‑全卤代烷基、‑N(烷基)C(=O)烷基、‑N(H)C(=O)烷基、‑C(=O)N(烷基)烷基、C(=O)N(H)烷基、‑C(=O)NH2、‑SO2N(烷基)烷基、‑SO2N(H)烷基、‑SO2NH2、‑NH‑SO2‑烷基和‑NH‑SO2‑环烷基的取代基取代;当杂芳基被取代时,所述杂芳基被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、羟基、烷基、烯基、全卤代烷基、环烷基、环烯基、杂环、‑O‑烷基、O‑全卤代烷基、‑N(烷基)烷基、‑N(H)烷基、‑NH2、‑SO2‑烷基、‑SO2‑全卤代烷基、‑N(烷基)C(=O)烷基、‑N(H)C(=O)烷基、C(=O)N(烷基)烷基、‑C(=O)N(H)烷基、‑C(=O)NH2、‑SO2N(烷基)烷基、‑SO2N(H)烷基、‑SO2NH2、‑NH‑SO2‑烷基和‑NH‑SO2‑环烷基的取代基取代;当杂环基被取代时,所述杂环基被1至3个取代基取代,当杂环基在“杂环”的环碳上被取代时,所述取代基独立地选自卤素、硝基、氰基、氧代、烷基、烯基、全卤代烷基、环烷基、环烯基、芳基、杂芳基、杂环基、‑OR10b、‑C(=O)OR10a、‑OC(=O)R10a、‑C(=O)N(H)R10、‑C(=O)N(烷基)R10、‑N(H)C(=O)R10a、‑N(H)R10、‑N(烷基)R10、‑N(H)C(=O)N(H)R10、‑N(H)C(=O)N(烷基)R10;当杂环基在“杂环”的环氮上被取代时,所述取代基独立地选自烷基、烯基、环烷基、环烯基、芳基、杂芳基、‑SO2R10a、‑C(=O)R10a、C(=O)OR10a、‑C(=O)N(H)R10、‑C(=O)N(烷基)R10、‑NH‑SO2‑烷基和‑NH‑SO2‑环烷基;当杂环基在“杂环”的环硫上被取代时,所述硫被1或2个氧代基团取代;R10选自氢、烷基、烯基、环烷基、环烯基、芳基、杂芳基和杂环基;R10a选自烷基、烯基、全卤代烷基、环烷基、环烯基、芳基、杂芳基和杂环基;并且R10b选自氢、烷基、烯基、全卤代烷基、环烷基、环烯基、芳基、杂芳基和杂环基。
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