[发明专利]传感器、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201380026160.7 | 申请日： | 2013-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN104321702B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | T·劳伦特;J·H·W·雅各布斯;H·考克;Y·范德维基维尔;J·范德瓦尔;B·克拿伦;R·J·伍德;J·S·C·维斯特尔拉肯;H·范德里基德特;E·库伊克尔;W·M·J·赫肯斯-墨腾斯;Y·B·Y·特莱特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻。因此，热流更倾向于流向温度调节装置而不是浸没液体，使得能够减小或最小化浸没液体中的温度引发的扰动。 | ||
| 搜索关键词： | 传感器 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于浸没类型光刻设备中的传感器，所述传感器包括：构件，在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的元件相邻的空间的浸没液体；变换器，配置成将刺激转换为电信号；和温度调节装置，其中所述变换器和温度调节装置之间的第一热流路径具有比所述变换器和浸没液体之间的第二热流路径低的热阻，所述温度调节装置和变换器以非接触的方式热耦合。
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