[发明专利]在应用多区气体供给装置的等离子体处理室中的共用气体面板有效
申请号: | 201380027432.5 | 申请日: | 2013-03-21 |
公开(公告)号: | CN104321462A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 伊克巴尔·沙瑞芙;阿加瓦尔·皮施;伊范格鲁斯·斯派洛普鲁斯;马克·塔斯卡尔 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23F1/08 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于在等离子体处理室的多个多区气体供给室中共用气体面板的装置和方法。各多区气体供给室具备其自身的多区气体供给装置,以便可调节地将进入的气流分入各室并且将不同的气流提供至多区气体供给室的不同区域。 | ||
搜索关键词: | 应用 气体 供给 装置 等离子体 处理 中的 共用 面板 | ||
【主权项】:
一种用于将工艺气体提供至等离子体处理系统的多个多区气体供给室的气体供给输送装置,包括:多个气体供给管道;被连接以接纳来自所述多个气体供给管道的不同气体的共用气体面板,所述共用气体面板将所述不同气体加以混合以形成混合气体并且将所述混合气体均等地分开以便将所述混合气体的一部分提供至所述多个多区气体供给室的每个室;包括连接到所述共用气体面板的下游的至少两个多区气体输入装置的多个多区气体供给装置,所述多个多区气体供给装置中的每个构造成可调节地将从所述共用气体面板被所述多个多区域气体输送装置中的每个所接纳的所述混合气体的所述部分分成指定用于所述多个多区气体供给室的多区气体供给室的不同区域的多个气体区域流。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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