[发明专利]在应用多区气体供给装置的等离子体处理室中的共用气体面板有效

专利信息
申请号: 201380027432.5 申请日: 2013-03-21
公开(公告)号: CN104321462A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 伊克巴尔·沙瑞芙;阿加瓦尔·皮施;伊范格鲁斯·斯派洛普鲁斯;马克·塔斯卡尔 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23F1/08
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于在等离子体处理室的多个多区气体供给室中共用气体面板的装置和方法。各多区气体供给室具备其自身的多区气体供给装置,以便可调节地将进入的气流分入各室并且将不同的气流提供至多区气体供给室的不同区域。
搜索关键词: 应用 气体 供给 装置 等离子体 处理 中的 共用 面板
【主权项】:
一种用于将工艺气体提供至等离子体处理系统的多个多区气体供给室的气体供给输送装置,包括:多个气体供给管道;被连接以接纳来自所述多个气体供给管道的不同气体的共用气体面板,所述共用气体面板将所述不同气体加以混合以形成混合气体并且将所述混合气体均等地分开以便将所述混合气体的一部分提供至所述多个多区气体供给室的每个室;包括连接到所述共用气体面板的下游的至少两个多区气体输入装置的多个多区气体供给装置,所述多个多区气体供给装置中的每个构造成可调节地将从所述共用气体面板被所述多个多区域气体输送装置中的每个所接纳的所述混合气体的所述部分分成指定用于所述多个多区气体供给室的多区气体供给室的不同区域的多个气体区域流。
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