[发明专利]灭菌处理装置及使用该装置的灭菌处理方法在审
| 申请号： | 201380027446.7 | 申请日： | 2013-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN104349795A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 板良敷朝将;鬼塚典夫 | 申请（专利权）人： | 莎罗雅株式会社 |
| 主分类号： | A61L2/18 | 分类号： | A61L2/18;H05H1/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种灭菌处理装置，其特征在于，具备：反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理；试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；减压机构，对所述反应容器内进行减压；换气机构，对所述反应容器内进行换气；以及等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体。在利用所述试剂的灭菌处理后对所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。 | ||
| 搜索关键词： | 灭菌 处理 装置 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种灭菌处理装置，其特征在于，具备：反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理；试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；减压机构，对所述反应容器内进行减压；换气机构，对所述反应容器内进行换气；等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体；以及控制机构，在利用所述试剂的灭菌处理后在所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。
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