[发明专利]具有涡流阻挡构件的水力旋流器

摘要

水力旋流器(10)，其包含筒体(12)，所述筒体具有流体入口(14)、过滤流体出口(16)、流出物出口(18)、工艺流体出口(20)和围绕轴(X)定位并且包围多个排列的腔室的内周壁(22)，所述筒体包括i)与流体入口(14)流体连通的涡流室(24)、位于涡流室(24)内并包围滤液室(46)的过滤器组件(26)、从流体入口(14)并围绕过滤器组件(26)延伸的流体通路(28)，所述流体通路适合于围绕过滤器组件(26)产生涡流流体流，其中滤液室(46)与过滤流体出口(16)流体连通，使得通过过滤器组件(26)的流体进入滤液室(46)并可以通过过滤流体出口(16)离开筒体(12)，和ii)与涡流室(24)流体连通并且适合从其接收未过滤流体的流出物分离室(30)，其中流出物分离室(30)与工艺流体出口(20)和流出物出口(18)流体连通；其中水力旋流器(10)还包括位于所述涡流室和流出物分离室(24，30)之间的涡流阻挡构件(34)，其适合于在流体从涡流室(24)流到流出物分离室(30)时干扰涡流流体流。

主权项

水力旋流器(10)，其包含筒体(12)，所述筒体包括流体入口(14)、过滤流体出口(16)、流出物出口(18)、工艺流体出口(20)和围绕轴(X)定位并且包围多个轴向排列的腔室的内周壁(22)，所述筒体包括：i)与流体入口(14)流体连通的涡流室(24)、位于涡流室(24)内的包含对称位于轴(X)周围的外膜表面(44)并包围与过滤流体出口(16)流体连通的滤液室(46)的过滤器组件(26)、从流体入口(14)延伸并围绕过滤器组件(26)的流体处理通路(28)，所述流体处理通路适合于在过滤器组件(26)周围产生涡流流体流，其中滤液室(46)与过滤流体出口(16)流体连通，使得通过过滤器组件(26)的流体进入滤液室(46)并被允许通过过滤流体出口(16)离开筒体(12)，和ii)适合于从涡流室(24)接收未过滤流体的流出物分离室(30)，其中流出物分离室(30)与流出物出口(18)流体连通，以及管道(31)，其位于流出物分离室(30)中并从位于轴(X)附近的入口(33)延伸至位于所述流出物分离室(30)中的工艺流体出口(20)，以及同心围绕所述入口(33)定位的折流板(35)，其阻断进入所述入口(33)的直线流体通路，其中水力旋流器(10)还包括位于所述涡流室和流出物分离室(24，30)之间的涡流阻挡构件(34)，所述涡流阻挡构件适合于在流体从涡流室(24)流到流出物分离室(30)时干扰涡流流体流，并将在所述涡流室和流出物分离室(24，30)之间的大部分流体流引导到邻近于筒体(12)的内周壁(22)的位置；其中所述涡流阻挡构件(34)包括延伸到与筒体(12)的内周壁(22)邻近或与之接触的位置的外周缘(40)，并且包括或不包括延伸穿过它的多个孔(42)；其中所述工艺流体是流出物分离室(30)中的剩余液体。