[发明专利]用于测量光谱系统的性能的方法和设备有效
| 申请号： | 201380029284.0 | 申请日： | 2013-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN104350378B | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·瑟斯顿;伊恩·贝尔;布赖恩·史密斯;安德鲁·伍尔夫雷伊;朱莉·格林 | 申请（专利权）人： | 瑞尼斯豪公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;G01N33/53 |
| 代理公司： | 北京金思港知识产权代理有限公司11349 | 代理人： | 邵毓琴 |
| 地址： | 英国格*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种测量光谱系统的性能的方法，该方法包括针对将由所述光谱系统识别的一组成分中的每种成分获得多个成分光谱，所述成分光谱是针对影响该成分光谱的至少一个因素的变化获得的。然后模拟样品光谱，每个样品光谱都是针对对应的潜在样品使用与用于模拟其他样品光谱的成分光谱不同的至少一个不同成分光谱和/或所述成分光谱中的至少一个成分光谱的不同量来模拟的。对所述样品光谱进行分析，以针对每个样品光谱获得所述对应的潜在样品的特征的测量数量和/或性质，并且基于所述测量数量和/或性质生成性能测量。本发明还涉及一种用于执行该方法的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 光谱 系统 性能 方法 | ||
【主权项】：
一种测量光谱系统的性能的方法，该方法包括：a)针对将由所述光谱系统识别的一组成分中的每种成分获得多个成分光谱，所述成分光谱是针对影响该成分光谱的至少一个因素的变化获得的；b)模拟样品光谱，每个样品光谱都是针对对应的潜在样品使用与用于模拟其他样品光谱的成分光谱不同的至少一个不同成分光谱和/或所述成分光谱中的至少一个成分光谱的不同量来模拟的；c)对所述样品光谱进行分析，以针对每个样品光谱获得所述对应的潜在样品的特征的测量数量和/或性质；以及d)基于所述测量数量和/或性质生成性能测量。
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