[发明专利]高分子化合物、光致抗蚀剂用树脂组合物、及半导体的制造方法

摘要

本发明提供一种灵敏度、分辨率优异，线边缘粗糙度小，可以精确地形成微细图案，可降低显影缺陷的产生的高分子化合物。本发明的高分子化合物至少包含下述式(a)所示的单体单元a、及含有具有极性基团的脂环式骨架的单体单元b。作为所述单体单元b的极性基团，优选选自-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-O-、-C(＝O)-O-C(＝O)-、-C(＝O)-NH-、-S(＝O)-O-、-S(＝O)₂-O-、-OR^a、-C(＝O)-OR^a(R^a为任选具有取代基的烷基)、及-CN中的至少1种基团。

主权项

高分子化合物，其至少包含：下述式(a)所示的单体单元a、及含有具有极性基团的脂环式骨架的单体单元b，[化学式1]式中，R表示氢原子、卤素原子、或任选具有卤素原子的碳原子数1～6的烷基；R¹、R²相同或不同，表示任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；R³为与环Z¹键合的取代基，表示氧代基、烷基、任选被保护基保护的羟基、任选被保护基保护的羟基烷基、任选被保护基保护的羧基、或氰基；n表示0～3的整数，在n为2以上的情况下，2个以上的R³可以相同，也可以不同，环Z¹表示碳原子数3或4的脂环式烃环。