[发明专利]用于计算具有纳米线的光学堆漫反射的系统及方法有效
| 申请号： | 201380029858.4 | 申请日： | 2013-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN104428771A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 维克特·波多利斯基;迈克尔·A·斯派德;杰弗瑞·沃克;代海霞 | 申请（专利权）人： | 凯博瑞奥斯技术公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;王艳春 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开涉及一种用于改进透明导电膜光学质量的方法，该透明导电膜包含有多层光学堆以及嵌入其中的导电纳米线。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 计算 具有 纳米 光学 漫反射 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：为具有纳米线的光学堆选择光学堆参数；根据所述光学堆参数，对于多个光学堆配置的每一个计算多个漫反射值集合，每个漫反射值集合包括用于从所述光学堆的各反射角的多个漫反射值；至少部分地基于所述多个角的所述漫反射值集合的比较来选择所述光学堆配置中之一；以及根据所选的光学堆配置，形成所述光学堆的层。
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