[发明专利]定位系统、光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201380031081.5 | 申请日： | 2013-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN104350427B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | R·A·C·M·比伦斯;A·B·热因克;M·M·J·范德瓦尔;W·H·T·M·安格南特;R·H·A·范莱肖特;H·M·J·范德格罗伊斯;S·W·范德霍伊文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 王茂华,张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种用于在光刻设备中定位物体的定位系统。定位系统包括支架(210)，位置测量装置，形变传感器(250；DS)和处理器(PU)。构造支架以保持物体。配置位置测量装置以测量支架的位置。位置测量装置包括至少一个位置传感器目标(100.1、100.2、100.3)以及用于与至少一个位置传感器目标协作以提供表示支架位置的位置信号的冗余集合的多个位置传感器(200.1、200.2；SA)。设置形变传感器以提供表示支架和位置测量装置之一形变的形变信号(S)。配置处理器以基于形变信号和位置信号的冗余集合而校准位置测量装置和形变传感器之一。 | ||
| 搜索关键词： | 定位 系统 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在光刻设备中定位物体的定位系统，所述定位系统包括：支架，构造用于保持所述物体；位置测量装置，配置用于测量所述支架的位置，所述位置测量装置包括至少一个位置传感器目标以及多个位置传感器，所述多个位置传感器用于与所述至少一个位置传感器目标协作以提供表示所述支架的位置的位置信号的冗余集合；形变传感器，设置用于提供表示所述支架和所述位置测量装置中的一个的形变的形变信号，以及处理器，配置用于基于所述形变信号和所述位置信号的冗余集合来校准所述位置测量装置和所述形变传感器中的一个。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380031081.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
