[发明专利]有效空间调制照射系统有效
| 申请号： | 201380031725.0 | 申请日： | 2013-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN104365091B | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·L·霍尔曼;马修·B·桑普塞尔 | 申请（专利权）人： | 追踪有限公司 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31;H04N5/74;G03B21/00;G09F19/18 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 林彦 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种投影器(100)可包含经定位远离空间光调制器(108)实质上一个焦距处的投射透镜(120)。所述投影器还可包含经配置以照射所述空间光调制器的非成像光学器件(102)。所述非成像光学器件(102)可包含光发射器(104)及光展保留反射器(106)。所述投影器(100)可经配置以使用来自所述非成像光学器件(102)的光来将所述空间光调制器(108)所产生的图像投射到一距离处。 | ||
| 搜索关键词： | 有效 空间 调制 照射 系统 | ||
【主权项】：
一种投射装置，其包括：第一透镜，所述第一透镜具有第一焦距及第一光轴；空间光调制器，其定位于沿着所述第一光轴在制造公差内远离所述第一透镜一个第一焦距处；及光源，其经配置以照射所述空间光调制器，其中所述光源包含光发射器及光展保留反射器，其中所述装置经配置以使用来自所述光源的光将所述空间光调制器所产生的图案投射到无限远处。
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