[发明专利]填充水平测量设备及用于确定介电常数的设备有效
| 申请号： | 201380032284.6 | 申请日： | 2013-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN104395713B | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·布勒德特;彼得·克勒费尔 | 申请（专利权）人： | 恩德莱斯和豪瑟尔两合公司 |
| 主分类号： | G01F23/00 | 分类号： | G01F23/00;G01N27/22;G01F23/284;G01F23/296 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 赵晓祎,戚传江 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种填充水平测量设备，用于借助于行进时间方法来确定容器中的过程介质的填充水平。填充水平测量设备的特征在于，该填充水平测量设备具有用于确定第二介质的介电常数的装置，所述第二介质位于测量设备和过程介质之间。用于确定介电常数的装置包括用于高频测量信号的至少一个波导。所述波导至少部分地填充有电介质并且被实施并布置为使得电介质与第二介质形成界面，经由波导供给到第二介质的测量信号的相当大部分在所述界面处被反射。本发明进一步涉及一种用于确定介电常数的设备和由这种设备和填充水平测量设备组成的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 填充 水平 测量 设备 用于 确定 介电常数 | ||
【主权项】：
一种填充水平测量设备(9)，用于借助于行进时间方法来确定容器(12)中的过程介质(10)的填充水平，其特征在于，所述填充水平测量设备(9)具有用于确定第二介质(11)的介电常数的装置(1)，所述第二介质(11)位于所述填充水平测量设备(9)和所述过程介质(10)之间，其中，所述装置(1)包括用于高频测量信号的至少一个波导(2)，其中所述波导(2)至少部分地填充有电介质(21)并且被实施并可布置为使得所述电介质(21)与所述第二介质(11)形成界面(23)，经由所述波导(2)而被供给到所述第二介质(11)的测量信号的相当大部分在所述界面(23)处被反射。
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