[发明专利]表面制备方法在审
| 申请号： | 201380033250.9 | 申请日： | 2013-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN104508556A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | C.纳瓦罗;K.艾索;C.布罗乔;S.迪尔海尔;G.弗勒里;S.格劳拜;G.哈齐奥安诺;J-M.兰普诺克斯;J.沙弗 | 申请（专利权）人： | 阿克马法国公司;波尔多大学 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/40;B81C1/00;B82Y30/00;G03F7/00;B05D3/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及通过光强度的空间分布制备促进空间有序性和相干性的具有凸纹的表面的方法，所述表面用作在表面上的覆盖物的在纳米和微米尺度上的组织的导向装置，所述覆盖物特别地由嵌段共聚物制成。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 制备 方法 | ||
【主权项】：
通过光强度的空间分布制备促进有序性和空间相干性的浮雕一般的表面的方法，所述表面用作在表面上的覆盖层的在纳米和微米尺度上的组织的导向装置，所述方法包括以下步骤：A:在表面上沉积至少一种含有至少一个能异构化的官能团的(共)‑聚合物的溶液或分散体，B:蒸发溶剂，C:根据光强度的空间分布照射由此处理的表面，和产生具有周期性或者非周期性的浮雕的基序，D:在由此处理的表面上沉积至少一种嵌段共聚物的溶液或分散体，其三个尺寸的至少一个小于用于照射表面的半波长，E:通过蒸发或者反应除去溶剂。
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