[发明专利]取代的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)吡啶-3-基羧酰胺化合物及其作为除草剂的用途

摘要

式I的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)吡啶-3-基羧酰胺及其作为除草剂的用途。本发明涉及式I的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)吡啶-3-基羧酰胺及其作为除草剂的用途。在所述式I中，B表示N或CH，而R、R1、R3、R4和R5表示诸如氢、卤素或有机基团如烷基或苯基的基团。

主权项

式I的N‑(四唑‑5‑基)‑和N‑(三唑‑5‑基)吡啶‑3‑基羧酰胺、其N‑氧化物或可农用盐：其中B为N或CH；R选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、Rb‑S(O)n‑C1‑C3烷基、Rc‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、RdO‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、ReRfN‑C(＝O)‑C1‑C3烷基、RgRhN‑C1‑C3烷基、苯基‑Z和杂环基‑Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代；R1选自氰基‑Z1、卤素、硝基、C1‑C8烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基、C1‑C8卤代烷基、C1‑C8烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z1、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷硫基‑Z1、C2‑C6链烯氧基、C2‑C6炔氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z1、R1b‑S(O)k‑Z1、苯氧基‑Z1和杂环氧基‑Z1，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的氧键合的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R11取代；R3选自氢、卤素、OH‑Z2、NO2‑Z2、氰基‑Z2、C1‑C6烷基、C2‑C8链烯基、C2‑C8炔基、C3‑C10环烷基‑Z2、C3‑C10环烷氧基‑Z2，其中两个前述基团中的C3‑C10环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C8卤代烷基、C1‑C8烷氧基‑Z2、C1‑C8卤代烷氧基‑Z2、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z2、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷硫基‑Z2、C2‑C8链烯氧基‑Z2、C2‑C8炔氧基‑Z2、C2‑C8卤代链烯氧基‑Z2、C2‑C8卤代炔氧基‑Z2、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷氧基‑Z2、(三‑C1‑C4烷基)甲硅烷基‑Z2、R2b‑S(O)k‑Z2、R2c‑C(＝O)‑Z2、R2dO‑C(＝O)‑Z2、R2eR2fN‑C(＝O)‑Z2、R2gR2hN‑Z2、苯基‑Z2a和杂环基‑Z2a，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基‑Z2a和杂环基‑Z2a中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R21取代；R4选自氢、卤素、氰基、硝基、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基；R5选自氢、卤素、C1‑C4烷基和C1‑C4卤代烷基；条件是基团R4和R5中至少一个不为氢；n为0、1或2；k为0、1或2；R'、R11、R21相互独立地选自卤素、NO2、CN、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7卤代环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C6烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷硫基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷氧基、C3‑C7环烷氧基和C1‑C6卤代烷氧基，或者两个连位基团R'、R11或R21一起可以形成基团＝O；Z、Z1、Z2相互独立地选自共价键和C1‑C4链烷二基；Z2a选自共价键、C1‑C4链烷二基、O‑C1‑C4链烷二基、C1‑C4链烷二基‑O和C1‑C4链烷二基‑O‑C1‑C4链烷二基；Rb、R1b、R2b相互独立地选自C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代；Rc、R2c相互独立地选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、苯基、苄基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基、苄基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代；Rd、R2d相互独立地选自C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代；Re、Rf相互独立地选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代，或者Re、Rf与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N‑键合杂环基团；R2e、R2f相互独立地具有对Re、Rf所给含义；Rg选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代；Rh选自氢、C1‑C6烷基、C3‑C7环烷基、C3‑C7环烷基‑C1‑C4烷基，其中两个前述基团中的C3‑C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、基团C(＝O)‑Rk、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团取代，或者Rg、Rh与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自＝O、卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N‑键合杂环基团；R2g、R2h相互独立地具有对Rg、Rh所给含义；Rk具有对Rc所给含义。