[发明专利]光取向曝光方法及光取向曝光装置有效
| 申请号： | 201380034672.8 | 申请日： | 2013-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN104412152B | 公开（公告）日： | 2018-04-13 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一;桥本和重;新井敏成 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 吕琳,杨生平 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光取向曝光方法及光取向曝光装置。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光方法，其将液晶显示元件的各单位图像区域(Pa)分割为多个分割区域(Da1、Da2)，并分别向不同方向对各分割区域(Da1、Da2)的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光方法具有第1曝光工序，相对于整个单位图像区域(Pa)的被曝光面以倾斜的光照射角度(θ1)照射光；及第2曝光工序，相对于分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)，用以与第1曝光工序中的光照射角度(θ1)不同的角度倾斜的光照射角度(θ2)照射光。第2曝光工序经由与分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)对应的掩模图案照射光，通过聚光机构(13)对掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的第2分割区域(Da2)。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种光取向曝光装置，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其特征在于，具有：掩模，具有与所述分割区域中的一个区域对应的掩模图案；第1曝光装置，以不经由聚光机构的方式，相对于整个所述单位图像区域的被曝光面以倾斜的光照射角度照射光；第2曝光装置，相对于所述分割区域中的一个区域的被曝光面，经由所述掩模，用以与所述第1曝光装置的光照射角度不同的角度倾斜的光照射角度照射光；及聚光机构，对所述掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的分割区域，所述聚光机构沿着所述掩模图案的边缘配置有多个单透镜。
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