[发明专利]非达霉素的固态形式及其制备方法无效
| 申请号： | 201380036058.5 | 申请日： | 2013-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN104768963A | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | T.福纳格;A.科瓦斯内-梅泽;L.斯祖罗斯;E.N.阿瓦伊 | 申请（专利权）人： | 特瓦制药厂有限公司 |
| 主分类号： | C07H17/08 | 分类号： | C07H17/08;A61K31/7048;A61P31/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 温宏艳;万雪松 |
| 地址： | 匈牙利*** | 国省代码： | 匈牙利;HU |
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| 摘要： | 本发明提供非达霉素的固态形式、制备该固态形式的方法以及包含一种或多种非达霉素的所述固态形式的药物组合物和制剂，和制备该组合物和制剂的方法。本发明的固态形式表现出有利性质，例如在制造与加工中改善的可靠性和重现性以及在制剂中的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 霉素 固态 形式 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
非达霉素的晶型，其中所述晶型为：非达霉素的晶型，其被命名为形式Z1，其特征在于选自以下一种或多种的数据：X‑射线粉末衍射图，其具有在4.3、8.2和11.2°2θ±0.2°2θ的峰；基本上如图4所示的X‑射线粉末衍射图；和这些数据的组合；非达霉素的晶型Z，其特征在于选自以下一种或多种的数据：X‑射线粉末衍射图，其具有在4.1、9.7、10.2、11.2和15.6°2θ±0.2°2θ的峰；基本上如图8所示的X‑射线粉末衍射图；和这些数据的组合；或非达霉素的晶型，其被命名为形式C，其特征在于选自以下一种或多种的数据：X‑射线粉末衍射图，其具有在6.8、7.9、10.0、10.2、12.2、13.4、14.6、15.4、16.4、17.5、18.4和23.1°2θ±0.1°2θ的峰；基本上如图7所示的X‑射线粉末衍射图；和这些数据的组合。
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