[发明专利]用于在真空处理过程中使用的组件

摘要

用于在真空处理过程中使用的组件，该组件包括过程室1。提供用于对过程室1内的气体组分进行采样和分析的气体分析装置。该气体分析装置包括基于小型质谱仪或小型等离子体源的测量装置14，其被定位在细长的壳体18内。壳体18的一部分被定位在过程室1内使得气体在室1内被分析。该过程能够响应于气体分析而被控制。

主权项

一种用于在真空处理过程中使用的组件，所述组件包括：过程室，所述过程室定位有材料蒸发源、溅射源或等离子体源的形式的至少一个过程部件；以及用于被处理的对象的接纳位置，所述组件还包括：用于监视和/或控制所述过程室内的真空处理过程的气体分析装置，所述气体分析装置包括用于基于小型质谱仪或小型等离子体源设计来分析气体的测量装置，所述测量装置包括用于被分析的气体的接纳区域，在所述接纳区域中，气体能够被调节以允许对气体的分析；以及用于安装所述气体分析装置使得所述接纳区域与完全在所述过程室内的过程部件相邻的安装装置。