[发明专利]防尘薄膜用支承框的制造方法、防尘薄膜用支承框及防尘薄膜有效
申请号: | 201380037999.0 | 申请日: | 2013-07-11 |
公开(公告)号: | CN104471480B | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 山口隆幸;田口喜弘;饭塚章 | 申请(专利权)人: | 日本轻金属株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可通过阳极氧化处理形成充分黑色化的阳极氧化被膜,能在工业上低成本且简便地获得防尘薄膜用支承框的方法、通过该方法得到的防尘薄膜用支承框及防尘薄膜。防尘薄膜用支承框的制造方法以及通过该方法得到的防尘薄膜用支承框及具备光学薄膜体的防尘薄膜,所述方法是具备光学薄膜体用作防尘薄膜的防尘薄膜用支承框的制造方法,其特征在于,对由Al‑Zn‑Mg系铝合金形成的铝材进行退火后,在碱性浴中进行阳极氧化处理,形成明度指数L*值在40以下的阳极氧化被膜。 | ||
搜索关键词: | 防尘 薄膜 支承 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.防尘薄膜用支承框的制造方法,它是具备光学薄膜体用作防尘薄膜的防尘薄膜用支承框的制造方法,其特征在于,对将Al‑Zn‑Mg系铝合金熔体化而得的铝材或将Al‑Zn‑Mg系铝合金熔体化并进一步进行时效处理而得的铝材,以通过X射线衍射法测定的MgZn2的积分衍射强度达到39.0以上的条件进行退火后,在碱性浴中进行阳极氧化处理,形成明度指数L*值在40以下的阳极氧化被膜。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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