[发明专利]包括光学距离测量系统的用于微光刻的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201380038040.9 | 申请日： | 2013-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN104487896B | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | A.沃尔夫;M.施瓦布;T.格鲁纳;J.哈特杰斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件(M1‑M6)，并且包含距离测量系统(30、130、230)，用于测量光学组件(M1‑M6)中的至少一个和参考元件(40、140、240)之间的距离。所述距离测量系统包含频率梳发生器(32、132、232)，其构造成产生具有梳状频谱的电磁辐射(36、236)。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 光学 距离 测量 系统 用于 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件，并且包含距离测量系统(30,130,230)，用于测量所述多个光学组件中的至少一个光学组件与参考元件(40,140,240)之间的距离，其中，所述距离测量系统包含频率梳发生器(32,132,232)，所述频率梳发生器构造成产生具有梳状频谱的电磁辐射(36,236)，在所述投射曝光设备中形成测量光束路径，所述测量光束路径在多个光学组件上延伸，使得在各个被作用的光学组件上，测量辐射(36)的相应部分(36b)被反射回所述距离测量系统(30)。
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