[发明专利]环境扫描电子显微镜气体喷射系统

摘要

一种气体喷射系统提供了样品表面处的局部区域，其具有足够的气体浓度来由次级电子电离以中和样品表面上的电荷。在一些实施例中，气体集中结构将气体集中在表面附近。气体集中结构中的可选的孔允许带电粒子束冲击护罩区域的内部。在一些实施例中，表面附近的阳极增大返回至工件表面用于电荷中和的离子的数量，阳极在一些实施例中为气体喷射系统的一部分，而在一些实施例中为单独的结构。

主权项

一种用于将气体提供在真空室中的工件表面处的设备，包括：用于将气体集中在所述工件的护罩区域处的气体集中结构，所述气体集中结构具有用于使射束穿过至所述工件的孔口，所述护罩区域小于整个工件，所述孔口足够小以限制所述气体传导穿过所述孔口；用于支承所述气体集中结构的气体集中结构支承部件，所述气体集中结构支承部件能够移动，以将所述气体集中结构定位成将所述气体集中在所述工件上的感兴趣区域附近；用于将所述气体提供至所述气体集中结构内的空间的气体导管；其中，所述气体集中结构包括阳极，所述阳极构造成：引起集中气体的电离；朝所述工件表面驱动由所述电离生成的正离子；以及检测由所述电离放大的次级电子信号；以及所述阳极定形为朝所述感兴趣区域引导所述正离子。