[发明专利]密封高度变化被减少的真空绝缘玻璃(VIG)窗单元以及制备其的方法在审

专利信息
申请号: 201380040888.5 申请日: 2013-05-20
公开(公告)号: CN104641065A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 蒂莫西·A·丹尼斯;安德鲁·W·潘特克 申请(专利权)人: 佳殿工业公司
主分类号: E06B3/66 分类号: E06B3/66;E06B3/677
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种真空绝缘玻璃(VIG)窗组件和制备其的方法,其中,最终边缘密封高度变化优选是等于或小于0.20mm,更优选是等于或小于约0.15mm。控制最终边缘密封高度变化,可在真空泵送玻璃基片之间的腔时减少VIG窗组件的玻璃基片的破损。边缘密封高度变化可被控制,例如通过控制绿色熔块材料的初始分配、控制烧制期间的温度变化、和/或控制烧制期间的周期时间。
搜索关键词: 密封 高度 变化 减少 真空 绝缘 玻璃 vig 单元 以及 制备 方法
【主权项】:
一种真空绝缘玻璃(VIG)窗单元,包括:第一基片和第二基片;密封材料,夹在所述第一和第二基片之间,定义所述第一和第二基片之间所形成的外围腔,位于所述基片之间的所述腔在低于大气压的压力下,且所述密封材料在所述第一和第二基片之间形成气密密封,其中,围绕整个所述腔的所述密封材料的高度变化小于约0.20mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳殿工业公司,未经佳殿工业公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380040888.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top