[发明专利]描绘装置、曝光描绘装置、描绘方法及存储有程序的记录介质有效
| 申请号： | 201380042910.X | 申请日： | 2013-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN104583873B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 菊池浩明 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;H05K3/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 权太白,谢丽娜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 取得表示设于被曝光基板的多个基准标记的设计上的第一位置的坐标数据、表示以第一位置为基准而确定的向被曝光基板描绘的描绘图案的坐标数据及表示多个基准标记各自的实际的第二位置的坐标数据，对多个基准标记中的每一个，导出用于校正第一位置与第二位置的偏离的偏离校正量，使导出的偏离校正量分别以预先确定的比例减少，在以表示第二位置的坐标数据为基准并基于表示描绘图案的坐标数据而向被曝光基板描绘描绘图案的情况下，基于减少了的偏离校正量来校正表示描绘图案的坐标数据。 | ||
| 搜索关键词： | 描绘 装置 曝光 方法 存储 程序 记录 介质 | ||
【主权项】：
一种描绘装置，具备：取得构件，取得表示设于被曝光基板的多个基准标记的设计上的位置即第一位置的坐标数据、表示以所述第一位置为基准而确定的向所述被曝光基板描绘的描绘图案的坐标数据及表示所述多个基准标记各自的实际的位置即第二位置的坐标数据；导出构件，对所述多个基准标记中的每一个，导出用于校正所述第一位置与所述第二位置的偏离的偏离校正量；减少构件，使由所述导出构件导出的偏离校正量分别以预先确定的比例减少；以及校正构件，在以表示所述第二位置的坐标数据为基准而向所述被曝光基板描绘所述描绘图案的情况下，基于由所述减少构件减少了的偏离校正量来校正表示所述描绘图案的坐标数据。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社阿迪泰克工程，未经株式会社阿迪泰克工程许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380042910.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
