[发明专利]微细结构体、光学构件、防反射膜和微细结构体制造方法有效
申请号: | 201380043698.9 | 申请日: | 2013-07-03 |
公开(公告)号: | CN104583812B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 黑田一幸;北村伸;宫田浩克;高桥祐彦;菅野阳将 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;G02B1/18 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供具有防反射效果的防反射膜及其制造方法、防反射效果优异的光学构件、具有优异的拒水性的拒水性膜、具有高检测灵敏度的质谱分析用基板、高精确度相位板和可用于以上的微细结构体及其制造方法。微细结构体为其表面上包括多个锥体部的结构体,其中锥体部具有介观结构;并且介观结构包括具有介孔的结构。 | ||
搜索关键词: | 微细 结构 光学 构件 反射 水性 谱分析 用基板 相位 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种微细结构体,其包括在其表面上的多个锥体部,其特征在于:所述锥体部具有介观结构;所述介观结构包括具有形成介孔的壁部的结构;并且构成所述壁部的物质为具有2.5eV以上且10eV以下的带隙的材料。
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