[发明专利]用于以光学方式将结构传输到记录介质中的方法有效
| 申请号： | 201380043823.6 | 申请日： | 2013-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN104662477B | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | H.哈特德根;M.米库利茨 | 申请（专利权）人： | 于利奇研究中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 朱君,刘春元 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在本发明的框架内开发一种用于以光学方式将结构传输到记录介质中的方法，所述记录介质通过来自光子源的光子的照射能够局部地从第一未描画状态转变为第二描画状态。在此，记录介质的两种状态在记录介质的不同物理和/或化学特性中显现。根据本发明，选择至少一个具有少于每秒104个光子的光子流的光子源用于光子照射。已认识到，有利的是，利用这样少量的光子流能够传输特别精细的结构到记录介质中，而无需通过掩膜部分地遮挡照射。以该方式能够利用给定的光子波长（能量）来传输结构，所述结构明显小于由衍射极限预先确定的、所发出光子撞击的位置的概率分布的宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 方式 结构 传输 记录 介质 中的 方法 | ||
【主权项】：
一种用于以光学方式将结构传输到记录介质中的方法，所述记录介质通过来自光子源的光子的照射能够局部地从第一未写状态转变为第二已写状态，其中所述记录介质的两种状态在所述记录介质的不同物理和/或化学特性中显现，其特征在于，选择至少一个具有少于每秒104个光子的光子流的光子源用于光子的照射。
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