[发明专利]处置差分相衬成像中的未对准有效
| 申请号： | 201380044199.1 | 申请日： | 2013-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN104582575B8 | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | G·福格特米尔;U·范斯特文达勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G01N23/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及处置差分相衬成像中的未对准。为了提供对用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的经改进的处置，提供了一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，所述X射线成像系统(10)包括差分相衬设置(12)，所述差分相衬设置(12)具有：X射线源(14)、X射线探测器(16)和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)。所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，所述系统包括处理单元(24)和测量系统(26)，所述测量系统(26)用于确定所述光栅中的至少一个的未对准。所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)。所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括所述X射线源单元的所述差分相衬设置与所述X射线探测单元之间的未对准。另外，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)。 | ||
| 搜索关键词： | 未对准 相衬成像 相位光栅 分析器光栅 光栅 测量系统 源光栅 光学测量系统 处理单元 探测器 校正信号 配置 改进 | ||
【主权项】：
一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，包括：‑差分相衬设置(12)，其具有：X射线源(14)；X射线探测器(16)；以及光栅布置，其包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间；‑处理单元(24)；以及‑测量系统(26)，其用于确定所述光栅中的至少一个的未对准；其中，所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)；并且其中，所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)；并且其中，所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定所述X射线源单元与所述X射线探测单元之间的所述差分相衬设置的未对准；其中，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)；其中，所述测
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