[发明专利]信息记录介质用玻璃基板的制造方法有效
申请号: | 201380044681.5 | 申请日: | 2013-06-18 |
公开(公告)号: | CN104584128B | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 岛津典子 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 丁香兰,庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种记录介质用玻璃基板的制造方法,其具备下述工序精密研磨工序(S18),其中,利用pH为4以下的酸性的含有胶态二氧化硅的研磨液对玻璃部件的主表面进行精密研磨;第1浸渍工序(S19),其中,在精密研磨工序(S18)后,在溶液中浸渍5分钟以上;和超声波清洗工序(S20),其中,在第1浸渍工序(S19)后对所述玻璃部件实施超声波清洗,在精密研磨工序(S18)中进行了精密研磨的玻璃部件的表面粗糙度Ra在1μm2的测定范围为以下,第1浸渍工序(S19)的溶液的pH为6.5以上8.5以下。 | ||
搜索关键词: | 信息 记录 介质 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其用于信息记录介质,其中,该制造方法具备下述工序:精密研磨工序,其中,利用酸性的含有胶态二氧化硅的研磨液对玻璃部件的主表面进行精密研磨;第1浸渍工序,其中,在所述精密研磨工序后,在溶液中浸渍5分钟以上;和超声波清洗工序,其中,在所述第1浸渍工序后对所述玻璃部件实施超声波清洗,在所述精密研磨工序中进行了精密研磨的所述玻璃部件的表面粗糙度Ra在1μm2的测定范围为以下,所述第1浸渍工序的所述溶液的pH为6.5以上8.5以下,该制造方法进一步具备下述工序:擦洗工序,其中,在所述超声波清洗工序后对所述玻璃部件实施擦洗;和第3浸渍工序,其中,在所述擦洗工序后在pH6.5以上8.5以下的溶液中浸渍5分钟以上。
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