[发明专利]经由多功能结构单元双给体官能化苝和萘单酰亚胺的迫位

摘要

本发明提供了式(3)和(1)的化合物，其中n为0或1，R13和R14相同或不同且选自NHR310、NR311R312、OR313、SR314和R315，或者R13和R14一起选自(a)、(b)和(c)，且X为Cl、Br或I；和一种制备式(3)化合物的方法，包括式(1)化合物作为关键中间体。

主权项

一种制备下式化合物的方法：其中：n为1，R13和R14相同或不同且选自NHR310、NR311R312、OR313、SR314和R315，其中：R310、R311、R312、R313、R314和R315为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基、C6‑14芳基或杂芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3010R3011、O‑R3012和S‑R3013的取代基取代，且C6‑14芳基和杂芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR3014R3015、O‑R3016和S‑R3017的取代基取代，其中R3010、R3011、R3012、R3013、R3014、R3015、R3016和R3017相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，或者R13和R14一起选自如下组：其中：L1和L2为C1‑6亚烷基、C6‑14亚芳基或C1‑6亚烷基‑C6‑14亚芳基‑C1‑6亚烷基，R25为H、C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基或C5‑8环烷基、C6‑14芳基或杂芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3030R3031、O‑R3032和S‑R3033的取代基取代，且C6‑14芳基和杂芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR3034R3035、O‑R3036和S‑R3037的取代基取代，其中R3030、R3031、R3032、R3033、R3034、R3035、R3036和R3037相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，L3为直接键、C1‑6亚烷基、C6‑14亚芳基或C1‑6亚烷基‑C6‑14亚芳基‑C1‑6亚烷基，R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21和R22相同或不同且选自H、F、Cl、Br、I、CN、R300、OR301、SR302、OC(O)R303、C(O)OR304或NR305R306，其中R300、R301、R302、R303、R304、R305和R306为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基、C6‑14芳基或杂芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR3000R3001、O‑R3002、S‑R3003、NO2、CN和卤素的取代基取代，且C6‑14芳基和杂芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR3004R3005、O‑R3006、S‑R3007、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R3000、R3001、R3002、R3003、R3004、R3005、R3006和R3007相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，或者R17和R19一起，分别地，R18和R20一起为：且R23和R24一起为：其中：R26、R27和R28为H、C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基、C6‑14芳基或杂芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、COOM1、SO3M1、PO3M1、NO2、CN和卤素的取代基取代，且C6‑14芳基或杂芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、COOM1、SO3M1、PO3M1、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中M1为H、碱金属或N(R3020R3021R3022R3023)，其中R3020、R3021、R3022和R3023相同或不同且为C1‑10烷基，或者R27和R28与单元一起形成可被一个或多个选自COOM2、SO3M2、PO3M2、NO2、CN和卤素的取代基取代的5或6元环，其中M2为H、碱金属或N(R3024R3025R3026R3027)，其中R3024、R3025、R3026和R3027相同或不同且为C1‑10烷基，所述方法包括用a)M3OH，其中M3为碱金属，其中R400、R401、R402和R403相同或不同且选自H、C1‑20烷基和C6‑14芳基，其中：C1‑20烷基可被苯基取代，且C6‑14芳基可被C1‑10烷基取代，b)酸和c)X‑给体，其中X为Cl、Br或I，处理下式化合物：其中：n具有对式(3)所述的含义，R9和R10一起为：R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8相同或不同且选自H、F、Cl、Br、I、CN、R200、OR201、SR202、OC(O)R203、C(O)OR204或NR205R206，其中R200、R201、R202、R203、R204、R205和R206为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基、C6‑14芳基或杂芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NR2000R2001、O‑R2002、S‑R2003、NO2、CN和卤素的取代基取代，且C6‑14芳基和杂芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NR2004R2005、O‑R2006、S‑R2007、NO2、CN和卤素的取代基取代，其中R2000、R2001、R2002、R2003、R2004、R2005、R2006和R2007相同或不同且为C1‑10烷基或苯基，或者R3和R5一起，分别地，R4和R6一起为：且R11和R12一起为：其中R30为C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基、C5‑8环烷基、C6‑14芳基或杂芳基，其中：C1‑20烷基、C2‑20链烯基、C2‑20炔基和C5‑8环烷基可被一个或多个选自苯基、NO2、CN和卤素的取代基取代，且C6‑14芳基和杂芳基可被一个或多个选自C1‑10烷基、NO2、CN和卤素的取代基取代，从而获得下式化合物的步骤：其中：n具有对式(3)所述的含义，X具有对X‑给体所述的含义，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R11和R12具有对式(2)所述的含义，其中所述杂芳基为选自吡咯基、呋喃基、噻吩基、咪唑基、吡唑基、唑基、异唑基、噻唑基、异噻唑基、1,2,3‑三唑基、1,2,4‑三唑基、二唑基、四唑基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3‑三嗪基、1,2,4‑三嗪基、1,3,5‑三嗪基、氮杂基和1,2‑二氮杂基的5‑7元杂芳基。