[发明专利]反熔丝器件

摘要

电可编程栅极氧化物反熔丝器件包括具有反熔丝链接的反熔丝孔，该反熔丝链接包括之间有电介质层的诸金属和/或半导体电极。电介质层可以是层间电介质(ILD)、金属间电介质(IMD)或蚀刻停止层。反熔丝器件可以包括半导体基板，该半导体基板具有设置在该基板表面上的导电栅极(例如，高K金属栅极)，以及设置在该导电栅极上的电介质层。堆叠触点被设置在电介质层上，并且栅极触点被设置在栅极的暴露部分上。

主权项

一种栅极氧化物反熔丝器件，包括：半导体基板；在所述基板的表面上的栅极；在所述栅极上的电介质层；在所述电介质层的与所述栅极相对的表面上的堆叠触点，所述电介质层在所述堆叠触点和所述栅极之间；以及在所述栅极上的栅极触点。