[发明专利]平台系统以及包括该平台系统的光刻设备有效

专利信息
申请号: 201380048294.9 申请日: 2013-08-19
公开(公告)号: CN104641297B 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: R·A·C·M·比伦斯;R·J·T·鲁滕;J·S·C·韦斯特拉肯;K·J·J·M·扎尔;R·H·A·范莱肖特;E·A·F·范德帕施 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01D5/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;吕世磊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种平台系统,包括:可移动平台;以及用于测量平台的位置的编码器,其中编码器包括用于发射编码器束的发射器、用于与编码器束相互作用的光栅、以及用于检测已经与光栅相互作用的编码器束的检测器,编码器束在使用中沿着光路径传播;净化帽体,至少部分地包围光学路径;以及净化介质供应装置,用于将净化介质供应到净化帽体中。
搜索关键词: 平台 系统 以及 包括 光刻 设备
【主权项】:
一种平台系统,包括:可移动平台;编码器类型的位置测量系统,用于测量所述平台的位置,其中所述编码器类型的位置测量系统包括用于发射编码器束的发射器、用于与所述编码器束相互作用的第一光栅、以及用于检测与所述第一光栅相互作用之后的所述编码器束的检测器,所述编码器束在操作中沿着光路径传播,净化帽体,包围净化区域,所述净化区域至少部分地包括所述光路径,所述净化帽体包括与所述第一光栅实质上平行延伸的盖部,所述盖部包括允许所述编码器束通过的开口;以及净化介质供应装置,用于将净化介质供应到所述净化区域中。
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