[发明专利]在两个方向上是远心的光刻照射器

摘要

本发明涉及一种光刻照射装置，包括光束光源；聚光器(5)；光均化系统(4)，其包括至少一个微透镜阵列(L3、L4)，布置在聚光器(5)的上游，使得光均化系统的像方焦面位于聚光器的物方焦面；快门(3)，其布置在光均化系统的物方焦面，并且其中光均化系统包括两个微透镜阵列(L3、L4)，所述两个微透镜阵列的间隔以及其微透镜的布置和取向设计为使得，在正交于光轴的两个方向(X、Y)，光均化系统具有合并的像方焦面和合并的物方焦面。本发明同样涉及包括这种照射器的光刻设备。

主权项

一种光刻设备照射器，包括：‑光束的光源(1’)，‑聚光器(5)，‑光均化系统(4)，包括至少一个微透镜阵列(L3、L4)，位于所述聚光器的上游，使得所述光均化系统的像方焦面位于所述聚光器(5)的物方焦面，‑快门(3)，位于所述光均化系统(4)的物方焦面，并且所述照射器的特征在于，所述光均化系统(4)包括两个微透镜阵列(L3、L4)，其中所述两个微透镜阵列的间隔，以及微透镜的布置和取向，适应于使得所述光均化系统(4)沿着正交于光轴的两个方向(X、Y)，具有合并的像方焦面和合并的物方焦面，其中每个微透镜阵列(L3、L4)是包括两个互相面对的面的板，并且相对于光束的传播方向的第一微透镜阵列(L3)包括蚀刻在其每个面上的圆柱体微透镜，一个面的透镜圆柱体的轴正交于另一面的透镜圆柱体的轴，并且正交于光轴。