[发明专利]镜装置的制造方法无效
| 申请号： | 201380049445.2 | 申请日： | 2013-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN104704418A | 公开（公告）日： | 2015-06-10 |
| 发明（设计）人： | 三崎登纪子 | 申请（专利权）人： | 住友精密工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 浦彩华;张颖玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在对执行部件本体部分(251)的外周部分(255)的SiO2膜(240)进行蚀刻时，让SiO2膜(240)以比压电元件(4)更探向外侧的状态残留在执行部件本体部分(251)的表面上。当形成覆盖执行部件本体部分(251)和镜部分(252)的第三抗蚀剂掩膜(330)后再进行蚀刻时，第三抗蚀剂掩膜(330)具有让镜部分(252)的外周部分(256)露出来的第二狭缝(332)和让执行部件本体部分(251)的外周部分(256)和执行部件本体部分(251)的SiO2膜(240)露出来且宽度比第二狭缝(332)宽的第一狭缝(331)。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种镜装置的制造方法，该镜装置包括镜和执行部件，该执行部件具有执行部件本体，该执行部件对该镜进行驱动，在该执行部件本体的表面上叠层有压电元件，其特征在于：该制造方法包括准备工序、第一除去工序、第二除去工序以及第三除去工序，在该准备工序中准备基板，在该基板的表面上形成有绝缘膜，在成为上述执行部件本体之部分的该绝缘膜上叠层有上述压电元件，在该第一除去工序中，让上述基板中包括成为上述执行部件本体之部分的第一区域的上述绝缘膜残留下来，通过进行蚀刻将包括成为上述镜之部分的第二区域的绝缘膜除去，在该第二除去工序中，通过进行蚀刻将上述基板的上述第一区域中的至少成为执行部件本体之部分的外周部分的上述绝缘膜除去，在该第三除去工序中，形成覆盖上述基板中成为上述执行部件本体之部分和成为上述镜之部分的抗蚀剂掩膜，通过进行蚀刻除去上述基板中成为上述执行部件本体之部分的外周部分和成为上述镜之部分的外周部分；在上述第二除去工序中，让上述绝缘膜以比上述压电元件更向外侧探出来的状态残留在成为上述执行部件本体之部分的表面上，上述第三除去工序中的上述抗蚀剂掩膜具有第二狭缝和第一狭缝，该第二狭缝让上述基板中成为上述镜之部分的外周部分露出来，该第一狭缝让上述基板中成为上述执行部件本体之部分的外周部分和成为该执行部件本体之部分的上述绝缘膜露出来且该第一狭缝的宽度比该第二狭缝宽。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友精密工业株式会社;，未经住友精密工业株式会社;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380049445.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
