[发明专利]一体型分离膜结构体的缺陷检测方法、修补方法以及一体型分离膜结构体

摘要

提供检测孔单元上形成有分离膜的一体型分离膜结构体缺陷的简易的缺陷检测方法。此外，提供修补具有缺陷孔单元的一体型分离膜结构体的修补方法、经过修补的一体型分离膜结构体。从孔单元(4)外对每个孔单元(4)用气体加压，测定气体渗透孔单元(4)内的渗透量，渗透量多于(所有孔单元的渗透量平均值+A)(其中A为σ～6σ的规定值、σ为标准偏差)的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。或者，对每个孔单元(4)减压，测定孔单元(4)的真空度，真空度的值比(所有孔单元的真空度平均值+A)低的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。然后，向一体型分离膜结构体(1)的缺陷孔单元(4)内注入高分子化合物(27)，令其固化，堵住缺陷孔单元(4)。或者，将预成型的高分子化合物(27)插入缺陷孔单元(4)，堵住缺陷孔单元(4)。

主权项

1.一种一体型分离膜结构体，包含一体型基材和分离膜，一体型基材具有多个贯通孔单元，该贯通孔单元沿着长度方向的一侧端面至另一侧端面，由多孔质隔壁区划形成，分离膜成膜在所述贯通孔单元的内壁面，具有缺陷的贯通孔单元的至少两端部被不流通流体的密封材料闭塞；所述密封材料为环氧、硅系以及氟系中的任意一种合成树脂的高分子化合物；所述两端部上没有被所述密封材料闭塞的所述贯通孔单元满足以下条件：从所述贯通孔单元外对每个所述贯通孔单元用气体加压，测定所述气体渗透到所述贯通孔单元内的渗透量时，任意所述贯通孔单元的所述渗透量都在所有贯通孔单元的平均值+A的范围内，或者，对每个所述贯通孔单元减压，测定所述贯通孔单元的真空度时，任意所述贯通孔单元的所述真空度都在所有贯通孔单元的平均值+A的范围内；其中A为σ～6σ的规定值，σ为标准偏差。