[发明专利]新型螺环吲哚衍生物及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201380051394.7 申请日: 2013-10-04
公开(公告)号: CN104995194A 公开(公告)日: 2015-10-21
发明(设计)人: 崔海磊;田中富士枝 申请(专利权)人: 学校法人冲绳科学技术大学院大学学园
主分类号: C07D491/107 分类号: C07D491/107;A61K31/407;A61P35/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了一种式I的化合物,其中R1、R2、R3、R4和R5,n和m如文中定义。式I的化合物由烯酮与靛红的简明的催化的对映异构选择性正向杂Diels-Alder(hDA)反应制备,且该化合物可用于制备用于治疗增殖性疾病的药物组合物。
搜索关键词: 新型 吲哚 衍生物 及其 制备 方法
【主权项】:
式I的化合物:其中R1是氢、卤素;低级烷基、低级环烷基、低级烯基、低级炔基、低级烷氧基,其中这些取代基任选地被卤素取代;氰基、硝基;任选地被合适的保护基团保护的羟基;任选地被合适的保护基团保护的氨基,芳基、杂芳基,其中这些取代基任选地被卤素;低级烷基、低级烷氧基,其中这些取代基任选地被卤素取代;或氰基取代;‑C(=O)ORa、‑C(=O)NRaRb、‑OC(=O)Ra、‑OC(=O)ORa、‑OC(=O)NRaRb、‑NHC(=O)NRaRb、‑N{C(=O)Ra}{C(=O)Rb};Ra和Rb各自独立地是氢;低级烷基、低级环烷基、低级烯基、低级炔基,其中这些取代基任选地被卤素取代;Ra和Rb一起形成‑(CH2)l‑,或Ra和Rb与它们所连接的氮原子一起形成杂芳基,R2各自独立地是氢、卤素、羟基;低级烷基、低级烷氧基,其中这些取代基任选地被卤素取代,R3是氢;低级烷基、低级环烷基,其中这些取代基任选地被卤素取代或氧代;低级烷基磺酰基、芳基磺酰基;N‑保护基团;芳基、杂芳基,其中这些取代基任选地被烷基、烷氧基、卤素或羟基取代;R4和R5各自独立地是氢、低级烷基、低级烯基、低级炔基、低级烷氧基、任选地被合适的保护基团保护的羟基,或任选地被合适的保护基团保护的氨基、‑NRaRb,R4和R5与它们连接的碳原子一起形成羰基(C=O)、肟(C=NORc)、腙(C=N‑NRcRd)、缩醛(C(ORc)ORd),Rc和Rd各自独立地是氢、低级烷基、低级烯基、低级炔基、N‑保护基团,或氧‑保护基团;n是0至12,m是0至4,1是2至8或其外消旋体、对映异构体、非对映异构体,混合物或其药学上可接受的盐。
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