[发明专利]用于热辅助记录方式的磁记录介质及其制造方法在审
| 申请号： | 201380051757.7 | 申请日： | 2013-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN104685565A | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 佐藤成实;熊谷明恭;片野智纪;谷口克己 | 申请（专利权）人： | 富士电机株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/72 | 分类号： | G11B5/72;G11B5/84 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 俞丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的用于热辅助记录方式的磁记录介质具有在非磁性基板上的磁记录层和在所述磁记录层的上部的保护层。所述保护层包含：所述磁记录层的上部的第一下部保护层、所述第一下部保护层上的第一上部保护层、以及所述第一上部保护层上的第二保护层，所述第一下部保护层以从由Si、Al、Cu构成的组中选择的元素作为主要成分，所述第一上部保护层是由所述第一下部保护层的材料的氧化物构成的层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 辅助 记录 方式 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于热辅助记录方式的磁记录介质，该磁记录介质具有在非磁性基板上的磁记录层和在所述磁记录层的上部的保护层，其特征在于，所述保护层包含：所述磁记录层的上部的第一下部保护层、所述第一下部保护层上的第一上部保护层、以及所述第一上部保护层上的第二保护层，所述第一下部保护层以从由Si、Al、Cu构成的组中选择的元素作为主要成分，所述第一上部保护层是由所述第一下部保护层的材料的氧化物构成的层。
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