[发明专利]抗划痕偏振制品及其制造和使用方法在审
| 申请号： | 201380054757.2 | 申请日： | 2013-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN104871048A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | F·M·迪瑞斯;D·亨利 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 项丹;郭辉 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文揭示了光偏振制品，其包括基材、布置在基材表面上的光偏振层、布置在光偏振层上的厚的聚合物层以及布置在厚的聚合物层上的至少一层抗划痕层。厚的聚合物层起了缓冲层的作用，当与薄的抗磨损涂层结合时，实现了对于划痕和压痕的抗性的显著改进。即使当用锋利物体进行压痕时也展现出改进的抗压痕性。光偏振制品可用作例如眼科制品和显示器件中。还揭示了光偏振制品的制造和使用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 划痕 偏振 制品 及其 制造 使用方法 | ||
【主权项】：
一种光偏振制品，其包括：透光基材；布置在透光基材的表面上的光偏振层，其中所述光偏振层包含二向色染料；以及布置在光偏振层上的保护多层，其中所述保护多层包括：布置在光偏振层上的厚的聚合物第一层，其中，所述厚的聚合物第一层的厚度至少约为20微米；以及布置在厚的聚合物第一层上的薄的抗磨损第二层，其中所述薄的抗磨损第二层的厚度小于或等于约10微米。
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