[发明专利]用于制作磁性介质和其他结构的嵌入式掩模图案化处理

摘要

在一些实例中，一种方法包括：在基板上沉积功能层(例如，磁性层)；在功能层上沉积粒状层，该粒状层包括限定多个晶粒的第一材料，通过限定多个晶粒的晶界的第二材料分开该多个晶粒；从粒状层移除第二材料，使得粒状层的多个晶粒在功能层上限定硬掩模层；以及移除功能层的没有被硬掩模层掩蔽的部分，其中，在真空环境中执行沉积功能层、沉积粒状层、移除第二材料以及移除功能层的一部分。

主权项

一种方法，包括：在基板上沉积功能层；在所述功能层上沉积粒状层，所述粒状层包括限定多个晶粒的第一材料，通过限定所述多个晶粒的晶界的第二材料分开所述多个晶粒；从所述粒状层移除所述第二材料，使得所述粒状层的所述多个晶粒在所述功能层上限定硬掩模层；以及移除所述功能层的没有被所述硬掩模层掩蔽的部分，其中，在真空环境中执行沉积所述功能层、沉积所述粒状层、移除所述第二材料以及移除所述功能层的一部分。