[发明专利]用于光调制显示器的薄膜堆叠有效
| 申请号： | 201380056880.8 | 申请日： | 2013-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN104769462A | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | 吉安·J·马;约翰·H·宏;泰里斯·Y·江;忠·U·李 | 申请（专利权）人： | 皮克斯特隆尼斯有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22;G02B26/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林斯凯 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供用于吸收膜堆叠的系统、方法及设备。在一方面中，所述吸收膜堆叠为干涉吸收膜堆叠，对于选定波长的光，所述干涉吸收膜堆叠通过在材料堆叠内建立驻波而减少从所述堆叠的表面反射的光。在一些实施方案中，吸收层可放置于驻波干扰模式的峰值处。可实施所述吸收层以吸收选定波长的光且实质上减少不需要反射的量。在一些其它实施方案中，反射性表面可形成于所述堆叠的与所述吸收层相对的所述表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 调制 显示器 薄膜 堆叠 | ||
【主权项】：
一种装置，其包括衬底层，其邻近光源而安置且具有允许光穿过所述衬底层的孔口，及吸收膜堆叠，其包含：光反射材料层，光吸收材料层，其安置于所述光反射材料层上且与所述光反射材料层间隔固定距离，及干涉吸收膜堆叠，包含：具有第一折射率的介电材料层及具有第二折射率的介电材料层，所述介电材料层的厚度经选择以引起从所述干涉吸收膜堆叠反射的光干扰入射在所述干涉吸收膜堆叠上的光且使具有峰值振幅的干扰驻波出现在所述光吸收材料层处。
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