[发明专利]成膜掩膜有效
| 申请号： | 201380057122.8 | 申请日： | 2013-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN104755648B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 李洋,舒艳君 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜掩膜，用于使蒸镀材料覆盖于基板上而形成薄膜图案，在该成膜掩膜中，具备薄板状的磁性金属部件(1)，其在与上述薄膜图案相对应的位置设置有形状尺寸比该薄膜图案大的贯通孔(4)；和树脂制的薄膜(2)，其与上述磁性金属部件(1)的一个面紧贴而设置，且在上述贯通孔(4)内在与上述薄膜图案相对应的位置形成有形状尺寸与该薄膜图案相同的开口图案(5)，且可见光可透过薄膜(2)，上述开口图案(5)设置于开口图案形成区域(7)内，该开口图案形成区域(7)在上述贯通孔(4)内由上述磁性金属部件(1)的厚度与上述蒸镀材料相对于上述薄膜面的最大入射角度所决定的蒸镀的阴影的区域(6)所包围。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜掩膜 | ||
【主权项】：
一种成膜掩膜，用于使蒸镀材料覆盖于基板上而以恒定的排列间距排列形成多个薄膜图案，所述成膜掩膜的特征在于，具备：薄板状的磁性金属部件，其设置有以与所述薄膜图案相同的排列间距排列且形状尺寸比该薄膜图案大的贯通孔；和树脂制的薄膜，其与所述磁性金属部件的一个面紧贴而设置，且在所述贯通孔内在与所述薄膜图案相对应的位置形成有形状尺寸与该薄膜图案相同的开口图案，且可见光可透过该薄膜，所述开口图案设置于由蒸镀的阴影的区域所包围的区域内，该蒸镀的阴影的区域在所述贯通孔内由所述磁性金属部件的厚度与所述蒸镀材料相对于所述薄膜面的最大入射角度所决定，所述由蒸镀的阴影的区域所包围的区域的在与所述贯通孔的排列方向相同的方向的宽度W1，至少等于将所述开口图案的在与所述贯通孔的排列方向相同的方向的宽度W2加上所述开口图案的在相同方向的位置偏移允许值α的2倍值2α所得的值(W2+2α)。
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