[发明专利]用于形成包含砷掺杂剂的基底的溶液配方和方法有效

专利信息
申请号: 201380057792.X 申请日: 2013-11-05
公开(公告)号: CN104781909B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: S.E.霍赫斯特勒;K.D.波拉;L.S.穆迪;P.B.麦肯兹;刘俊佳 申请(专利权)人: 慧盛材料美国有限责任公司
主分类号: H01L21/04 分类号: H01L21/04;C07F9/80;C07F9/78;C07F9/68
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 马蔚钧;李炳爱
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 描述了用于形成包含掺杂剂的基底的溶液配方和方法。在具体实施方案中,该掺杂剂可包含砷(As)。在一个实施方案中,提供了包含溶剂和掺杂剂的掺杂剂溶液。在一个特定实施方案中,该掺杂剂溶液可具有至少大致等于能够致使基底表面处的原子连接到掺杂剂溶液的含砷化合物上的最低温度的闪点。在一个实施方案中,基底表面处的多个硅原子共价键合到该含砷化合物上。
搜索关键词: 用于 形成 包含 掺杂 基底 溶液 配方 方法
【主权项】:
1.一种用于形成包含砷掺杂剂的基底的方法,其包括:制备包含掺杂剂和溶剂的溶液,所述掺杂剂包含含砷化合物;和使基底与所述溶液接触,其中所述溶液的闪点等于或高于能够在不多于2.5小时的持续时间内致使所述基底的至少一部分原子与所述溶液的含砷化合物之间形成连接的最低温度,所述溶液的闪点在50℃至115℃的范围内,其中所述含砷化合物包括有机砷化合物,并且使基底与所述溶液接触包括使所述有机砷化合物共价键合到位于所述基底表面的多个硅原子中的至少一部分上。
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