[发明专利]使用F2进行腔室清洁的方法以及用于为此方法制备F2的工艺

摘要

元素氟经常是由KF在氟化氢中的一种溶液以电化学方式制备的并且含有变化量的HF作为杂质。本发明提供了一种用于使用F₂进行腔室清洁的方法，其中该F₂含有按重量计多于0.1％并且按重量计等于或少于10％的HF。出人意料地，这样的F₂非常适合于腔室清洁的目的。在一个优选的实施例中，含有按重量计多于0.1％并且按重量计少于2.5％的HF的该F₂被电解式生产、清洁、递送并被原位使用而不进行任何加压处理。省略清洁步骤和过程并且使用在F₂中留下相对高HF含量的过程条件允许同时省略加压步骤。优点是更少的清洁步骤、有利的清洁条件、以及省去泵或压缩机使该方法在经济、节能、安全以及可靠性角度上是有利的。

主权项

一种用于使用F₂清洁腔室的方法，该F₂含有按重量计多于0.01％并且按重量计少于10％的HF。