[发明专利]光刻胶剥离液组合物及光刻胶的剥离方法有效
| 申请号： | 201380058917.0 | 申请日： | 2013-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN104781732B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 许舜范;金炳郁;赵泰杓;尹锡壹;郑世桓;张斗瑛;朴善周 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/004 |
| 代理公司： | 11399 北京冠和权律师事务所 | 代理人： | 朱健 |
| 地址： | 韩国仁*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种示出光刻胶剥离效果和防腐效果的光刻胶剥离液组合物及光刻胶剥离方法。更详细地讲，涉及含有N,N‑二甲基丙酰胺、Solketal(丙酮缩甘油)、以及有机胺的光刻胶去除用剥离液组合物，该组合物能够替代对环境和人体有害的乙二醇醚(glycol ether)类化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶去除用剥离液组合物，其包括：/nN,N-二甲基丙酰胺10至90重量％；/n丙酮缩甘油(Solketal)5至80重量％；/n有机胺1至20重量％；/n非质子极性溶剂1至30重量％，/n其中，所述非质子极性溶剂为选自由二甲基亚砜、N-甲基甲酰胺(NMF)、N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基咪唑、γ-丁内酯以及环丁砜组成的组中的一种以上。/n
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