[发明专利]离子布植机的维护方法有效
申请号: | 201380060603.4 | 申请日: | 2013-09-30 |
公开(公告)号: | CN104813435B | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 威廉·T·理威;乔治·M·葛梅尔;具本雄;布兰特·S·宾斯;理查尔·M·怀特 | 申请(专利权)人: | 瓦里安半导体设备公司 |
主分类号: | H01J37/24 | 分类号: | H01J37/24;H01J37/248;H01J37/317;H01J37/32 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 马爽,臧建明 |
地址: | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述一种离子布植机的维护方法。在一实施例中,进行电浆辅助调节,其中修正对萃取电极施加的偏压以抑制离子束的形成。增加供应至离子源中的电浆产生器的功率,从而产生高密度电浆,所述高密度电浆不被萃取电极所萃取。所述电浆从离子源腔室延伸经过萃取孔,接着高能离子调节萃取电极。在另一实施例中,进行电浆辅助清洁。在此模式下,将萃取电极移动至离离子源腔室更远的位置上且使用不同的源气体用来产生电浆。在一些实施例中,将所述模式的结合用来减少离子布植机中的故障。 | ||
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【主权项】:
一种离子布植机的维护方法,其特征在于,包括:以正常操作模式操作所述离子布植机持续第一时段;于所述第一时段后,进行第一电浆辅助调节以减少故障率,其中通过修正施加至所述离子布植机中的萃取电极的电压来进行电浆辅助调节;于所述第一电浆辅助调节后,以正常操作模式操作所述离子布植机持续第二时段;以及于所述第二时段后,进行电浆辅助清洁,其中通过修正离子源腔室与所述萃取电极之间的距离及修正所述离子源腔室中所用的源气体来进行电浆辅助清洁。
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