[发明专利]存储元件和存储装置有效

专利信息
申请号: 201380060841.5 申请日: 2013-11-06
公开(公告)号: CN104813469A 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: 大场和博;清宏彰 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L45/00;H01L49/00
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 梁兴龙;曹正建
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种能够实现低电流写入时中间电阻保持性能提高的存储元件和存储装置。本发明还提供了一种能够实现随机电报噪声降低的存储元件和存储装置。根据本技术的一个实施方案是按顺序包括第一电极、存储层和第二电极的存储元件,所述存储层设置有:离子源层,所述离子源层含有选自碲(Te)、硫(S)和硒(Se)中的至少一种硫族元素以及选自元素周期表的第4、5和6族的过渡金属元素中的至少一种过渡金属元素;和电阻变化层,所述电阻变化层含有硼(B)和氧(O)。根据本技术的另一个实施方案是按顺序包括第一电极、存储层和第二电极的存储元件,所述存储层设置有:上述的离子源层;和电阻变化层,所述电阻变化层含有选自元素周期表的第4、5和6族的过渡金属元素中的至少一种过渡金属元素和氧(O)。
搜索关键词: 存储 元件 装置
【主权项】:
一种按顺序设置有第一电极、存储层和第二电极的存储元件,所述存储层包括:离子源层,所述离子源层含有选自碲(Te)、硫(S)和硒(Se)中的一种或多种硫族元素以及选自元素周期表的第4族元素、第5族元素和第6族元素中的一种或多种过渡金属元素;和电阻变化层,所述电阻变化层含有硼(B)和氧(O)。
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