[发明专利]上层膜形成用组合物以及使用其的抗蚀图案形成方法有效
| 申请号： | 201380065161.2 | 申请日： | 2013-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN104919370B | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 王晓伟;铃木理人;冈安哲雄;G·鲍洛斯基 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（卢森堡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘淼 |
| 地址： | 卢森堡(L-1*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
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| 摘要： | 本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用该组合物的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于超紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度、图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的富勒烯衍生物以及溶剂；以及，一种通过将该组合物涂布于抗蚀层表面并且进行曝光显影而形成图案的方法。该组合物也可进一步包含聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 上层 形成 组合 以及 使用 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种上层膜形成用组合物，其特征在于包含具有亲水性基团的富勒烯衍生物以及溶剂，其中，该亲水性基团为从式F2和F5中选出的酚羟基，![]()
或者，该亲水性基团从由磺酸基、硝基、氰基以及聚环氧烷基组成的组中选出，该上层膜形成用组合物还包含从聚羟基苯乙烯、聚乙烯醇和聚丙烯酸中选出的聚合物。
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