[发明专利]用于生产具有改进的防污特性的光学物品的方法在审
申请号: | 201380068386.3 | 申请日: | 2013-12-26 |
公开(公告)号: | CN104903773A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | G·富尔纳德;A·贾鲁里;D·孔特 | 申请(专利权)人: | 埃西勒国际通用光学公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 彭立兵;林柏楠 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明针对一种用于制造光学物品的方法,该方法包括以下步骤:提供一个基底,该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团,依次地将该携带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少两种不同的材料,被称为M1和M2,M1具有高于M2的重均分子量,在一个真空室中在导致将那些材料沉积到该基底的表面上的条件下,并且其中:M1是一种取代的硅烷,包含:至少一个结合到硅原子上的官能团X1,其中该Si-X1基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键和/或与M2形成一个共价键,以及至少一个含氟基团,M2是一种具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷,包含:至少一个结合到硅原子上的官能团X2,其中该Si-X2基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键和/或与M1形成一个共价键,以及至少一个疏水和/或疏油基团,或至少一个亲水基团,其中M1的重均分子量与M2的重均分子量之间的差值是高于或等于600g/mol。 | ||
搜索关键词: | 用于 生产 具有 改进 防污 特性 光学 物品 方法 | ||
【主权项】:
用于制造光学物品的方法,该方法包括以下步骤:‑提供基底,该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带‑OH官能团,‑在真空室中在导致将那些材料沉积到该基底的表面上的条件下,依次地将该携带‑OH官能团的基底的一个面暴露于至少两种被称为M1和M2的不同的材料,M1具有高于M2的重均分子量,优选地按M1然后M2的顺序,并且其中:‑M1是取代的硅烷,包含:ο至少一个结合到硅原子上的官能团X1,其中该Si‑X1基团能够与该基底的‑OH基团形成共价键,和/或与M2形成共价键,以及ο至少一个含氟基团,‑M2是具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷,包含:ο至少一个结合到硅原子上的官能团X2,其中该Si‑X2基团能够与该基底的‑OH基团形成共价键,和/或与M1形成共价键,以及ο至少一个疏水和/或疏油基团,或至少一个亲水基团,其中M1的重均分子量与M2的重均分子量之间的差值是高于或等于600g/mol、优选高于或等于900g/mol。
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