[发明专利]穿过聚合物的通孔和制造这种通孔的方法有效
申请号: | 201380069223.7 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN104904009B | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | R·H·波尔马;H·范泽尔;G·张 | 申请(专利权)人: | 高级包装中心公司 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L21/48 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;李科 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及用于半导体层和晶圆的三维(3D)堆叠、封装和异构集成的通孔。特别地,本发明涉及用于制造通孔的工艺、通孔、3D电路和半导体装置。通孔是用于垂直地(即,在平面外方向上)互连芯片、装置、互连层和晶圆的互连件。 | ||
搜索关键词: | 穿过 聚合物 制造 这种 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制造用于半导体装置和/或晶圆的三维堆叠、封装和/或异构集成的通孔(A)的工艺,所述工艺包括:(a)在载体层或基底(1)上提供聚合物的微结构(2);(b)将所述微结构涂布第一导电材料(4)的层以提供涂布的微结构;(c)将所述涂布的微结构封装在第二电绝缘材料(5)内以使得所述涂布的微结构形成所述第二电绝缘材料(5)的上表面和下表面之间的互连;(d)移除所述载体层或基底(1)并且向所述通孔(A)提供背部和顶部的互连(6,7)。
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