[发明专利]穿过聚合物的通孔和制造这种通孔的方法有效

专利信息
申请号: 201380069223.7 申请日: 2013-12-11
公开(公告)号: CN104904009B 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: R·H·波尔马;H·范泽尔;G·张 申请(专利权)人: 高级包装中心公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 王勇;李科
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及用于半导体层和晶圆的三维(3D)堆叠、封装和异构集成的通孔。特别地,本发明涉及用于制造通孔的工艺、通孔、3D电路和半导体装置。通孔是用于垂直地(即,在平面外方向上)互连芯片、装置、互连层和晶圆的互连件。
搜索关键词: 穿过 聚合物 制造 这种 方法
【主权项】:
1.一种用于制造用于半导体装置和/或晶圆的三维堆叠、封装和/或异构集成的通孔(A)的工艺,所述工艺包括:(a)在载体层或基底(1)上提供聚合物的微结构(2);(b)将所述微结构涂布第一导电材料(4)的层以提供涂布的微结构;(c)将所述涂布的微结构封装在第二电绝缘材料(5)内以使得所述涂布的微结构形成所述第二电绝缘材料(5)的上表面和下表面之间的互连;(d)移除所述载体层或基底(1)并且向所述通孔(A)提供背部和顶部的互连(6,7)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高级包装中心公司,未经高级包装中心公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380069223.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top