[发明专利]化学机械抛光设备及方法

摘要

在一方面中，揭示基板抛光设备。设备具有抛光平台，抛光平台具有两个或更多个区域，每一区域适于含有不同的浆料组分。在另一方面中，提供基板抛光系统，系统具有用以托住基板的支架、具抛光垫的抛光平台和分配系统，分配系统适于按时序分配至少两种不同的浆料组分，浆料组分选自由氧化浆料组分、材料移除浆料组分和腐蚀抑制浆料组分所组成的群组。许多其它方面尚提供适于抛光基板的抛光方法和系统。

主权项

1.一种基板抛光设备，包含：多个个别浆料组分供应，所述多个个别浆料组分供应包含没有材料移除浆料组分或腐蚀抑制浆料组分的表面改质浆料组分供应、没有表面改质浆料组分或腐蚀抑制浆料组分的材料移除浆料组分供应、与没有表面改质浆料组分或材料移除浆料组分的腐蚀抑制浆料组分供应；分配系统，所述分配系统经配置以分配来自所述多个个别浆料组分供应的所述浆料组分；抛光平台，所述抛光平台具有两个或更多个区域，每一区域适于在一个时间接收来自所述分配系统的所述浆料组分中的一个或两个浆料组分但不是全部浆料组分，使得所述浆料组分中的不同浆料组分或所述浆料组分的不同混合物在一个时间提供在所述两个或更多个区域中的每个区域，所述浆料组分中的一个或两个浆料组分包含适于执行表面改质功能的所述表面改质浆料组分、适于执行材料移除功能的所述材料移除浆料组分与适于执行腐蚀抑制功能的所述腐蚀抑制浆料组分，及其中所述分配系统包含在分配器内的多个通道，每个通道耦接不同组出口，每组出口经安置以分配所述浆料组分中的不同个别浆料组分至所述区域中的每个区域。