[发明专利]粒子射线照射装置及具备该粒子射线照射装置的粒子射线治疗装置有效

专利信息
申请号: 201380071022.0 申请日: 2013-01-22
公开(公告)号: CN104918657B 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 蒲越虎;池田昌广;本田泰三 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 俞丹
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的粒子射线照射装置具有扫描电磁铁(2),该扫描电磁铁(2)用于使粒子射线对照射对象进行扫描;扫描信息存储部(4),该扫描信息存储部(4)中存储有扫描位置信息和扫描顺序信号,所述扫描位置信息与粒子射线对照射对象进行扫描时的多个扫描位置有关,所述扫描顺序信息是对多个扫描位置进行扫描的顺序;以及扫描电磁铁控制部(8),该扫描电磁铁控制部(8)根据存储于该扫描信息存储部中的扫描位置信息和扫描顺序信息来控制扫描电磁铁,存储于扫描信息存储部中的扫描位置信息包含顺序相邻的扫描位置信息为同一扫描位置信息的部分。
搜索关键词: 粒子 射线 照射 装置 具备 治疗
【主权项】:
一种粒子射线照射装置,包括:扫描电磁铁,该扫描电磁铁用于使粒子射线对照射对象进行扫描;扫描信息存储部,该扫描信息存储部中存储有扫描位置信息和扫描顺序信息,所述扫描位置信息与粒子射线对所述照射对象进行扫描时的多个扫描位置有关,所述扫描顺序信息是对所述多个扫描位置进行扫描的顺序;以及扫描电磁铁控制部,该扫描电磁铁控制部根据存储于该扫描信息存储部中的所述扫描位置信息和所述扫描顺序信息,来控制所述扫描电磁铁,所述粒子射线照射装置的特征在于,存储于所述扫描信息存储部中的所述扫描位置信息包含顺序相邻的所述扫描位置信息为同一扫描位置信息的部分,每当所述扫描电磁铁控制部判断不随被照射的扫描位置而变化的固定曝光剂量时,所述扫描电磁铁控制部获取存储于所述扫描信息存储部中的顺序为下一个的扫描位置信息,并根据该顺序为下一个的扫描位置信息来控制所述扫描电磁铁。
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