[发明专利]用于ALD处理颗粒物质的方法和设备无效
| 申请号： | 201380071123.8 | 申请日： | 2013-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN104937137A | 公开（公告）日： | 2015-09-23 |
| 发明（设计）人： | J·科斯塔莫 | 申请（专利权）人： | 皮考逊公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 苏娟;朱利晓 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 希望用薄涂层涂覆小粒子以改变这些粒子的表面特性，同时维持其体特性。ALD技术是为此目的感兴趣的应用。本发明提供一种方法和设备，其用于沿着竖原子层沉积(ALD)筒(100)的中央区域中的上下竖通道(102)安排前体蒸汽流经所述筒，用于使要进行ALD处理的颗粒物质在转动时在筒中向上运动通过基本从竖通道延伸到筒的侧壁的线程区域和向下沿着竖通道运动以引起颗粒物质在ALD处理过程中循环。本发明的一种效果是防止形成结块。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 ald 处理 颗粒 物质 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：沿着竖原子层沉积(ALD)筒的中央区域中的上下竖通道安排前体蒸汽流经所述筒；和在转动时，使要进行ALD处理的颗粒物质在筒中向上运动通过基本从竖通道延伸到筒的侧壁的线程区域和向下沿着竖通道运动以引起颗粒物质在ALD处理过程中循环。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
