[发明专利]光刻设备、衬底支撑系统、器件制造方法以及控制程序在审
| 申请号： | 201380071385.4 | 申请日： | 2013-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN104956263A | 公开（公告）日： | 2015-09-30 |
| 发明（设计）人： | M·M·J·范德瓦尔;W·H·T·M·安格内恩特;R·I·卡米迪;K·曼索乌里 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：物体，所述物体具有柔顺动态特性；多个致动器，所述多个致动器被配置为作用在被驱动的物体上，其中所述多个致动器在致动器自由度上是超定的；控制系统，所述控制系统包括变换矩阵，所述变换矩阵被配置为响应于一系列设定点产生用于所述多个致动器中的每个致动器的控制器输出信号，其中所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发物体的在至少一个自由度上的柔顺动态特性。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 衬底 支撑 系统 器件 制造 方法 以及 控制程序 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：被驱动的物体，所述被驱动的物体具有柔顺动态特性；多个致动器，所述多个致动器被配置为作用在被驱动的物体上，其中所述多个致动器在致动器自由度上是超定的；控制系统，所述控制系统包括变换矩阵，所述变换矩阵被配置为响应于设定点产生用于所述多个致动器中的每个致动器的控制器输出信号，其中所述变换矩阵被配置为使得所述控制器输出信号不会激发被驱动的物体在至少一个自由度上的柔顺动态特性。
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