[发明专利]搬送系统、曝光装置、搬送方法、曝光方法及器件制造方法、以及吸引装置有效
申请号: | 201380071862.7 | 申请日: | 2013-11-27 |
公开(公告)号: | CN104956465B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 原英明 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20;H01L21/677 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 搬送系统具有:晶片载台(WST),其保持所载置的晶片(W),并且能够沿着XY平面移动;吸盘单元(153),其在规定位置的上方,从上方以非接触的方式保持晶片,且能够上下移动;和多个上下移动销(140),其在晶片载台(WST)位于上述规定位置时,在晶片载台(WST)上能够从下方支承由吸盘单元(153)保持的晶片,且能够上下移动。并且,通过Z位置检测系统(146)来测定晶片(W)的平坦度,并基于该测定结果来独立地驱动将晶片(W)保持(支承)的吸盘单元(153)和上下移动销(140)。 | ||
搜索关键词: | 晶片 晶片载台 吸盘单元 搬送系统 上下移动 动销 下移 支承 位置检测系统 曝光装置 器件制造 吸引装置 非接触 平坦度 载置 驱动 曝光 移动 | ||
【主权项】:
1.一种搬送系统,将板状的物体搬送到设有物体载置部的物体载置部件上,其特征在于,具有:吸引部件,其具有与所述物体相对的相对部,在该相对部与所述物体之间形成气流而产生对所述物体的吸引力;计测装置,其求出与由所述吸引部件吸引的所述物体的形状相关的信息;驱动装置,其使所述吸引部件在相对于所述物体载置部接近或分离的上下方向上相对移动;和控制装置,其使用由所述计测装置求出的所述信息,以使所述物体以规定形状载置到所述物体载置部上的方式,控制所述吸引部件和所述驱动装置中的至少一方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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